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铜表面沉积氧化亚铜颗粒研究论文

发布时间:2024-08-15 12:58:45

电化学沉积法制备氧化亚铜薄膜2

电化学沉积过 程的影响因素:电解液的组成,电流密度,有机添加剂,沉积化学电位,温度, 溶液表面活性剂、分散剂等。 1.2 氧化亚铜: 氧化亚铜(Cu20)作为一

电沉积制备氧化亚铜薄膜及其性能研究

一、电沉积合成枝形Cu2O薄膜 ?引言:无机纳米材料的尺寸和形貌对于调控其性能有着非常重要的影响。作为一种非常重要的p型半导体材料,氧化亚铜(Cu2O)具有的能隙大约为2.2eV

氧化亚铜形貌控制及其形成机理研究pdf

因此,关于不同形貌氧化亚铜的可控合成开始引起广大科研人员的研究热情。目前,水热法已经成为实现氧化亚铜形貌可控制备的有效方法之一。本论文的主要目的是探索

一种在磷青铜表面制备氧化亚铜纳

如图1所示,经SEM测定该样品氧化亚铜纳米结构为60~110nm左右的颗粒堆积而成。 [0023]实施例2:将牌号C5212的磷青铜网经过丙酮和0.1M的硝酸清洗后浸入到水当中,反应温度为室温(2

氧化亚铜微纳米材料的制备及催化性能研究

探究在紫外可见光光照条件下,以4-硝基苯酚作为模拟污染物,用氧化亚铜微纳米材料作为催化剂,硼氢化钠为还原剂,对其进行催化降解性能实验。结果分析表明,实验进行5min后,氧化亚铜微纳

电化学沉积氧化亚铜半导体薄膜及其光伏应用

电化学沉积氧化亚铜半导体薄膜及其光伏应用-材料科学与工程专业论文.pdf.docx,摘要摘要 摘要 摘要 传统化石能源的过度开发和使用所带来的能源枯竭和环境污染是

氧化亚铜纳米八面体的可控制备

本论文以硫酸铜为铜源,以乳酸为络合剂,采用恒电位沉积法在碱性条件下沉积 制备出了形貌可控的CUE0纳米八面体;利用无电极沉积法,在相同的实验参数制

氧化亚铜的电化学沉积

氧化亚铜的电化学沉积 陈长毅 【摘要】通过电化学沉积的方法制备 Cu2O,采用 X-射线衍射和扫描电镜技术表征 产物的形貌和晶体结构.考察沉积电位、沉积时间、前驱物的浓度等实

氧化亚铜纳米线的制备及其性能研

氧化亚铜纳米线的制备及其性能研究论文.pdf,氧化亚铜纳米线的制备及其性能研究 姚素薇,刘伟星,张卫国,李贺 (天津大学化工学院杉山表面技术实验室,天

电沉积制备氧化亚铜薄膜及其性能

电沉积法制备氧化亚铜薄膜及其性能研究 Ⅰ、电沉积法制备Cu2O薄膜的形貌控制 在外加电源的条件下实现的溶液中的化学沉积方法定义为电化学沉积。. 电化学沉积

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关键字:颗粒剂;成型工艺;制粒;辅料中图分类号:T 文献标识码:A文章编号:1006-3765(2010)-01-0027-02作者简介:张毓,女()。浙江中医药大学在读硕士生。研究方向:

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